クリーナー主要な製品概要

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液 晶

LCDカラーフィルター用の現像に最適な現像液をラインナップ。獨自の配合技術により、細線BM現像に対しても良好な現像性を実現。
（1）HAC：LCDカラーフィルターのRGBレジスト用 活性剤配合のネガレジスト現像液です。界面活性剤効果により細線現像や幅広い現像マージンを実現可能。
（2）DX：RGB用活性剤配合のネガレジスト現像液です。高濃縮タイプのため、優れた現像性能?薬液使用量の削減が可能となります。有機アルカリタイプのため、金屬へのダメージが少なく、COA （Color Filter On Array）プロセスも対応可能です。

剝離性の強いリワーク再生剝離液です。ガラスに対するダメージが少なく、RGB,BM,UV cure/Heat cure OC, PS用レジストに対応可能です。

有機系洗浄液で、油分?研磨材?ダストなどの汚れを除去可能な製品です。

半 導 體
高精細なフォトリソグラフィプロセスに対応した、各種現像液、剝離液をランナップしています。その他にも、WLPプロセスで用いられる厚膜ネガレジストやドライフィルムレジスト用剝離液、ドライエッチング殘渣除去液などもラインナップしております。各種法規制に対応した製品、NMP非含有製品など環境に配慮した薬液をご提案可能です。

NK disperse UTシリーズ現像液
半導體、ディスクリートに使用される有機アルカリ?活性剤配合タイプのネガ?ポジレジスト用現像液です。カラーレジストやPIレンズなどネガ、ポジ両方の現像に対応しており、様々なプロセスに対して適用可能です。レジスト分散性に優れた活性剤を選定し、パターン上にレジスト殘渣を殘さず、加えてレジスト起因の微細泡を消泡させる効果を有するため、次工程へ移行することが可能です。
NK poleveシリーズレジスト剝離液
（1）汎用レジスト剝離液
         NK poleve 517
         NK poleve PRS100
一般的な液體レジスト用剝離液
（2）高機能レジスト剝離液
         NK  poleve 496
         NK  poleve 480 
DRIEプロセスにある変性レジストや厚膜レジストに対応可能。
（3）ドライフィルム用剝離液
         NK poleve 117
         NK poleve SH
ドライフィルム専用剝離液。